3.3.1. Рентгеновская литография
Рентгеновская литография является разновидностью оптической бесконтактной печати, в которой для экспонирования используют «мягкие» рентгеновские лучи длиной волны 0,4 - 12 нм, возбуждаемые с помощью интенсивных электронных лучей. Несмотря на то, что при рентгеновской литографии используется бесконтактная
(
Read more... )
Comments 40
Электронная пушка генерирует электронный пучок, фокусируемый на охлаждаемой водой мишени (часто используется палладиевая мишень).
вроде действующие литографы лазером облучают олово для получения излучения, не?
и маску не просвечивают, а отражают лт неё?
как для коллимирования рентгеновских лучей нет ни зеркал, ни линз
так ли это?
Reply
Здесь речь идёт про работы в более перспективной обрасти реальной рентгеновской литографии, чем практически используемая сейчас фотолитография в экстремальном УФ диапазоне 13 нм (в рекламных целях названная "рентгеновская фотолитография").
Reply
а, это теория, а не существующая технология.
Reply
Не совсем теория. Такие технологические линии в опытном варианте существуют, но пока все проблемы там не решены.
Как раз мы со своими компетенциями можем попробовать помочь решить часть технических проблем этой технологии. Более того, в некотором роде я лично стоял у истоков интереса к рентгеновской литографии со стороны тех, кому сейчас в РФ получено эту тематику модерировать. Причём, тогда, когда я этим людям это посоветовал, никаких санкций не было, а все микроэлектронщики дружно делали кристаллы на Тайване, имитируя "импортозамещение". За прошедшие 10-12 лет мои знакомые кучи статей написали, диссертаций назащищали... Нда, но "спасибо" говорят, впрочем.
Я же - практик, т.е. мне нравится получать реальные результаты, а не бумажные отчёты и статьи. Поэтому, каждому своё.
Reply
проблема в зеркалах и линзах
сложные материалы нужны
этим занимаются в ипф в нижнем
но про результаты ничего особо не известно
хотя проект идет давно уже
Reply
Зеркала и линзы - это для критического УФ на 13 нм. Реальный рентген на 0,4 нм никаких зеркал, только контактный способ.
Reply
само сфокусируется?)
Reply
Для контактного способа не нужно фокусирующих элементов. Просто необходим более или менее параллельный пучок излучения. Или близко от маски расположенный источник излучения.
Reply
Как-то выглядит очевидным многоанодный вариант. Или двигать его - анод - над пластиной.
Reply
Или электронным лучом по аноду водить, что мы умеем хорошо.
Reply
Как вариант - если можно добиться излучения в сторону, противоположную электронному пучку. Тогда остался бы вопрос с охлаждением, но схема получилась бы красивой.
Reply
Дело в том, что сегодня нет вменяемых причин для создания в РФ экономически конкурентной с лучшими образцами транснациональных корпораций технологии микроэлектроники. Достаточно сделать то, что делают они пусть и дороже на порядок, но самостоятельно. Это резко обесценит их санкционное давление и сделает это давление для них бессмысленными инвестициями. А для ракеты или танка не важно, сколько стоит микропроцессор в его мозгах, 1 000 рублей или 10 000 рублей, главное, чтобы он был свой.
Поэтому, охлаждения, может быть, и не надо. Пусть процесс экспонирования делается не 2-3 минуты, а 2-3 часа. Главное, чтобы получалось качественно.
Reply
Установки рентгенотравления в Зеленограде в конце 80-х стояли...Были ещё рентгенодифрактометры типа ДРОН-3. Но Пентковский увёз "Эльбрус" в США, подарив им "Пентиум", и все эти цепочки лишились главной цели - процессора.
Reply
В Зеленограде под рентгеновскую литографию был построен (и сохранён даже) целый синхротрон. Но это в другой уверенной в своём развитии развитой цивилизации.
Reply
Reply
Ме кажется, что для России сейчас дешевизна производства - это цель-панацея дурная. России нужно обесценить санкции против себя, а не нацеливаться на захват мирового рынка. Для обесценивания санкций, которые введены не против "российского айфона", а против российской "Сатаны", достаточно просто уметь делать процессор, а не делать "самый дешёвый процессор". Как только Россия сама сделает, пусть и более дорогой (пусть даже в 10 или 100 раз более дорогой!), но полностью собственный тех.процесс, тут же на Западе появятся куча специалистов, которые будут лоббировать снятие санкций против микроэлектроники РФ, как "не работающих, мешающих зарабатывать в РФ деньги, подстёгивающих развитие русских".
Я ещё сделаю как-нибудь статью про то, кому нужно навязывать государству свех-цели-панацеи.
Reply
Ну в этом случае будет очень слабое развитие. Так как фактически это процессоры будут для оборонки. Но оборонке маленький техпроцесс не нужен, а значит и задачи специфические будут. Всё же низкая цена это выход на тот же госсектор. При дорогом процессоре это сложно будет сделать. При этом как говорят техпроцесс ниже 60нм это уже всякие инженерные ухищрения чем реальное уменьшение размера. А свой литограф на 60нм до 2030 года планируют запустить.
Reply
Leave a comment