Дважды уже приходилось гуглить степени чистоты для специальных растворителей, пора сохранить (утянуто отсюда):

Purification Grades

MOS, VLSI, ULSI and SLSI Quality
MOS
metal oxide semiconductor

Impurity metal ion concentration (per element) approx. 100 ppb, particle concentration < 1000/ml
VLSI
very large scale integration

Impurity metal ion ( Read more... )