Я имею ввиду реальный рентгеновский литограф, который ещё не создан ни кем в мире, но потенциально может сделать установки нынешней литографии в экстремальном УФ длиной волны 13 нм устаревшими.
Разработана эффективная методика микроструктурирования сапфира (kif.ras.ru) Вообще, следующий шаг в литографии возможно сделают те, кто не погряз полностью в текущей «современной» технологии. Для этого надо сложить совершенно другие технические «пазлы» в совершенно другую систему.