= Литограф с длиной волны излучения 193 нм, способного формировать топологию чипов в 80 нм, должен быть создан до 2026 года, так что по срокам разработки укладываемся вовремя, хотя, конечно, некоторый сдвиг в сроках вполне вероятен.
...
Август 2016 года: Дмитрий Медведев посещает завод по производству микроэлектроники АО «Ангстрем-Т». До банкротства завода остаётся 3 года.
Само производство представляло из себя полную копию завода "AMD", ранее располагаемого в Дрездене. Однако фабрике так и не было суждено нормально заработать.
Даже вмешательство в процесс государства, которое выделяло миллиарды бюджетных рублей, никак не изменило ситуацию.
Российские специалисты за долгие годы отсутствия собственной полупроводниковой промышленности оказались неспособны наладить производство устаревшего оборудования даже с учётом того, что процессы технологической линии производства были скопированы, что называется, один в один.
= Последняя разработка советской фотолитографической установки такого типа (революционная по тем временам) была сделана в СССР в конце 1980-х минским предприятием «Планар» под научным руководством тогдашнего директора Физико-технологического института РАН академика РАН Камиля Валиева.
https://aftershock.news/?q=node/1427901