«Микрон» на ПМЭФ 2011: Геннадий Красников представил ход запуска производства чипов с топологическим
Originally posted by babicz. at «Микрон» на ПМЭФ 2011: Геннадий Красников представил ход запуска производства чипов с топологическими нормами 90нм
На выставке ПМЭФ 2011 «Микрон» представил совместный проект с Роснано по созданию производства чипов с топологическими нормами 90 нм на 200мм пластинах, реализуемый на базе действующего производства ОАО «НИИМЭ и Микрон»
В рамках деловой программы форума был организован телемост Санкт-Петербург - Зеленоград, в ходе которого генеральный директор ОАО «НИИМЭ и Микрон» Геннадий Красников представил председателю правления ОАО «РОСНАНО» Анатолию Чубайсу и участникам форума ход реализации проекта производства чипов с топологическими нормами 90нм.
Геннадий Красников отметил: «Для реализации проекта мы построили новые производственные помещения, увеличив площадь чистых комнат практически вдвое до 3500 кв.м. На 90% завершен монтаж новых единиц оборудования, 150 человек прошли обучение за рубежом на современных мировых фабриках. Сегодня мы на стадии наладки оборудования перед запуском серийного производства, старт которого намечен на IV квартал этого года. С началом массового выпуска чипов по технологии 90нм производственная мощность завода удвоится».
«Чипы с топологией 180-90 нм используются в телекоммуникациях, смарт-картах, бытовой электронике, промышленной, авто- и авиа-электронике. Сегодня производственной технологией уровня 90нм кроме России обладают всего 7 стран. Наше производство формирует технологическую экосистему: в проекте уже задействованы 50 компаний из 12 стран мира, некоторые западные компании локализовали производства в Зеленограде, образовались новые дизайн центры. Именно наличие собственного производства микроэлектроники обеспечивает технологическую безопасность государства и определяет его статус среди лидирующих мировых держав» - добавил Г.Красников.
На выставке ПМЭФ 2011 «Микрон» представил совместный проект с Роснано по созданию производства чипов с топологическими нормами 90 нм на 200мм пластинах, реализуемый на базе действующего производства ОАО «НИИМЭ и Микрон»
В рамках деловой программы форума был организован телемост Санкт-Петербург - Зеленоград, в ходе которого генеральный директор ОАО «НИИМЭ и Микрон» Геннадий Красников представил председателю правления ОАО «РОСНАНО» Анатолию Чубайсу и участникам форума ход реализации проекта производства чипов с топологическими нормами 90нм.
Геннадий Красников отметил: «Для реализации проекта мы построили новые производственные помещения, увеличив площадь чистых комнат практически вдвое до 3500 кв.м. На 90% завершен монтаж новых единиц оборудования, 150 человек прошли обучение за рубежом на современных мировых фабриках. Сегодня мы на стадии наладки оборудования перед запуском серийного производства, старт которого намечен на IV квартал этого года. С началом массового выпуска чипов по технологии 90нм производственная мощность завода удвоится».
«Чипы с топологией 180-90 нм используются в телекоммуникациях, смарт-картах, бытовой электронике, промышленной, авто- и авиа-электронике. Сегодня производственной технологией уровня 90нм кроме России обладают всего 7 стран. Наше производство формирует технологическую экосистему: в проекте уже задействованы 50 компаний из 12 стран мира, некоторые западные компании локализовали производства в Зеленограде, образовались новые дизайн центры. Именно наличие собственного производства микроэлектроники обеспечивает технологическую безопасность государства и определяет его статус среди лидирующих мировых держав» - добавил Г.Красников.